确保质量并检测错误在真空镀膜期间
通过现代测量系统实现
测量系统
在真空镀膜期间
在操作镀膜系统时，对镀膜工艺中的镀膜特性进行持续验证是一项重要任务。这涉及质量保证以及缺陷检测和参数控制。这里的重要测量变量是光学特性，例如反射和透射。但薄膜电阻也具有决定性的。
冯阿登纳在此提供两种解决方案。原位测量系统包括在每个镀膜步骤后在生产线中局部固定的测量头。它们在一个轨道中提供有关各个单独镀膜的信息。异位测量系统在镀膜产品离开生产线后扫描其整个表面。
利用两个系统的信息，您可以测量特性及其分布以保证质量。您可以得出有关每个膜层的工艺参数控制的结论。
如需了解更多详细信息，请点击各个部件或直接联系我们。
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联系信息
16.05.2024 - 18.05.2024
TiExpo 2024
Booth: A / 099
Suzhou. (The city close to Shanghai)
19.05.2024 - 24.05.2024
ICMCTF 2024
Booth: 321
Grand Exhibit Hall of the Towne and Country Hotel
and Convention Center San Diego
California, USA
04.06. - 06.06.2024
FCVC 2024
Booth: B / 15
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09.06.2024 - 09.06.2024
IEEE PVSC Conf. Seattle 2024
Booth: Seattle Convention Center
13.06.2024 - 15.06.2024
SNEC Shanghai 2024
Booth: NH / B610
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RM905-907 No 425 Yishan Rd, Xuhui District, Shanghai 200235, PRC